按照國(guó)際慣例，無(wú)塵凈化水平主要是根據(jù)每立方米空氣中直徑大于分類標(biāo)準(zhǔn)的顆粒物數(shù)量來(lái)定義的。也就是說(shuō)，所謂無(wú)塵并不是100%無(wú)塵，而是控制在一個(gè)非常小的單元內(nèi)。當(dāng)然，這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中符合粉塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對(duì)于我們常見(jiàn)的粉塵來(lái)說(shuō)是非常微小的，但是對(duì)于光學(xué)結(jié)構(gòu)來(lái)說(shuō)，哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的粉塵都會(huì)產(chǎn)生非常大的負(fù)面影響，所以無(wú)塵是光學(xué)結(jié)構(gòu)產(chǎn)品生產(chǎn)的必然要求。

如果每立方米小于0.5微米的塵粒數(shù)控制在3500個(gè)以下，就達(dá)到了國(guó)際無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)的A級(jí)。目前應(yīng)用于芯片級(jí)生產(chǎn)加工的無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)對(duì)粉塵的要求比A級(jí)更高，這樣的高標(biāo)準(zhǔn)主要應(yīng)用于一些更高級(jí)別的芯片的生產(chǎn)。細(xì)粉塵量嚴(yán)格控制在每立方米1000個(gè)以內(nèi)，也就是業(yè)內(nèi)俗稱的1K級(jí)別。